真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝

Date：2019/8/27 8:39:18 / Read： / Source：本站

真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝:
真空蒸鍍工藝有間接式蒸鍍和直接蒸鍍兩種。直接蒸鍍工藝有間歇式、半連續(xù)式和連續(xù)式三種設(shè)備。連續(xù)蒸鍍設(shè)備的關(guān)鍵是被蒸的基材膜放在真空室外面的，可以自動翻卷換卷，它同真空室通過氣鎖( air lock)或者動力泵室( dynamics pumped chamber)的密封縫隙使基材膜進(jìn)出。氣鎖有良好的密閉性，因而可以連續(xù)地進(jìn)行蒸鍍。而不會影響高真空室中
的真空度。
間歇式工藝的優(yōu)點(diǎn)是 : (1) 投資成本比較低; (2) 系統(tǒng)可以容易地根據(jù)不同的基材和部件重新安放支架，易變換真空室中的部件; (3) 很容易變更蒸發(fā)系統(tǒng)來適應(yīng)不同基材的不同蒸鍍金屬; (4) 操作和維修保養(yǎng)都比較簡單;(5)設(shè)備可靠性大，無需特別的設(shè)計(jì)。最大的缺點(diǎn)是開始生產(chǎn)時(shí)為了把墻壁和機(jī)械件上的水蒸氣排出，需要較長的時(shí)間，能量的利用率低。
連續(xù)式工藝的優(yōu)點(diǎn)是: (1) 生產(chǎn)效率比較高，不需要重新啟動所需的時(shí)間和泵到高真空時(shí)的能量; (2) 涂布質(zhì)量較高，針孔比較少; (3) 成本比較低，由于節(jié)省了重新啟動泵抽到高真空的能量，為此，可節(jié)省電能。最大缺點(diǎn)是設(shè)備投資大，而且需要專門的技術(shù)，維修保養(yǎng)要求技術(shù)高。蒸鍍膜的基材寬度在609.6～2133.6mm，薄膜通過力矩馬達(dá)來自動控制放卷和收卷的速度，使之始終有一個(gè)均勻的恒定的線速度，因而有一個(gè)均勻的鍍膜厚度。鍍膜厚度靠鋁絲的揮發(fā)速度、薄膜的線速度來調(diào)控。提高熔融坩堝電流量，放大熔融氣化速度，可以使鍍層厚度提高，相反，提高薄膜收放卷速度，則使鍍層厚度減小。薄膜收放卷是用兩只同步力矩馬達(dá)帶動的。

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